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신소재 '스마트 출입문'으로 낸드플래시 용량 한계 넘었다동아사이언스 l2026.03.20

기술이 개발됐다.   KAIST는 조병진 전기및전자공학부 교수 연구팀이 신소재 '붕소 산질화물(BON)'을 반도체 메모리에 적용해 데이터 삭제 속도를 기존 대비 최대 23배 높이면서도 저장 안정성을 확보하는 데 성공했다고 20일 밝혔다. 연구 결과는 반도체 분야 최고 권위 학술대회인 '국제전자소자학회 ... ...