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신소재 '스마트 출입문'으로 낸드플래시 용량 한계 넘었다
동아사이언스
l
2026.03.20
제공 실험 결과 BON 터널링층을 적용한 소자는 데이터 삭제 속도가 기존 대비 최대 23배
향상
됐고 수만 번 반복 사용 후에도 성능이 그대로였다. 32단계 전압 상태를 구분해야 하는 셀 동작에서도 소자 간 데이터 분포의 정밀도를 3배 이상 높이는 데 성공했다. 조병진 교수는 "차세대 초고용량 메모리 ... ...
아미노산 하나 바꿔 면역세포의 암세포 살상능력 극대화
동아사이언스
l
2026.03.20
살상 능력을 극적으로
향상
하는지 입증했다"며 "T세포와 표적 물질의 기계적 결합력을
향상
하는 '캐치 본드 공학' 전략이 다양한 암 유형에 대한 T세포 치료 효과를 높이는 보편적인 전략이 될 수 있음을 시사한다"고 밝혔다. - doi.org/10.1126/science.adx316 ... ...
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